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Wet Etch Cleaner
半導(dǎo)體濕法刻蝕清洗設(shè)備
槽式濕法刻蝕清洗設(shè)備
Wet Bench
單片濕法刻蝕清洗設(shè)備
Single Wafer Cleaner
| 設(shè)備型號： | DF-3000B |
| 設(shè)備類型： | Cassette Less/Type |
| 晶圓尺寸： | 300mm |
| 設(shè)備配置： | 8~12 個(gè)槽體, 2~6 個(gè)Robot（可定制） |
| 可搭載先進(jìn)超聲波, 兆聲波 | |
| 槽體過溫保護(hù), 各Module配置漏液傳感器 | |
| 多級Wafer保護(hù)措施 | |
| 支持化學(xué)液CCSS / LCSS | |
| 自動(dòng)換酸, 自動(dòng)補(bǔ)液、配液( 可兼容多種濃度配比) | |
| 先進(jìn)Marangoni干燥 | |
| 加熱控制, 濃度控制, 流量控制, 壓力控制 | |
| 化學(xué)液/水, 直排&回收 | |
| 可靠性能： | Uptime≥98% Breakage≤1/100000 |
| MTBF≥650 hours MTTR≤3 hours | |
| 軟件控制： | PC+PLC+GUI 控制, 支持Schedule、EAP、FDC等功能 |
| 設(shè)備型號： | FY-3000S |
| 晶圓尺寸： | 300mm |
| 腔 體： | 4~24 個(gè)腔體（可定制） |
| Vacuum or Grip方式 | |
| 4~5 個(gè)Dispenser，2~3種化學(xué)液 | |
| 排風(fēng)分離：酸，堿，有機(jī)化學(xué)液分開排放 | |
| E F E M ： | 2 or 4 SMIF/FOUP, 1 Index robot, 1or 2WTR |
| 化學(xué)藥液： | 支持CCSS / LCSS Supply |
| 化學(xué)液泵循環(huán) | |
| 加熱控制, 濃度控制, 流量控制, 壓力控制 | |
| 化學(xué)液/水, 直排&回收 | |
| 配 置： | 高清攝像頭、離子發(fā)生器、臭氧發(fā)生器（可選） |
| 可靠性能： | Uptime≥98% Breakage≤1/100000 |
| MTBF≥500 hours MTTR≤3 hours | |
| 軟件控制： | PC+PLC+GUI 控制, 支持EAP、FDC等功能 |
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